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离子注入设备
2016-11-08 09:33   审核人:

 

材料科学与工程学院

所属实验室

真空等离子体表面处理实验室

仪器中文名称

离子注入设备

规格型号

HPID-500

仪器英文名称

Ion implantation equipment

单位资产管理号

20102017

仪器分类编码

03210706

购置日期

2009-7-1

仪器所在房间号

119

加盟仪器平台

      □否

是否进口

进口    国产  (单选)

生产国别

中国

制造厂商

哈尔滨工业大学组装 

购置金额(万元)

52.8462

仪器负责人

张德秋

使用机时

教学 0       科研:880        社会服务:0      (其中 开放机时:0  

项目数

教学实验:0             科研:2           社会服务:0

年维修费

0

年创收金额(元)

0

主要技术指标

1、输出功率:0-1KW连续可调;

2、输出阻抗:50Ω

3、输出频率:13560KHZ

4、频率稳定度:≤1.0×10-620);

5连续工作时间:8小时。

主要附件

该设备包括真空系统1套、磁控溅射电源2套、偏压电源1套、高压电源1套及射频电源1套。

功能/应用范围

多种气体离子浸没注入。

仪器服务内容

磁控溅射实现各种复合膜如金属膜、氮化物膜、碳化物膜及氧化物膜以及调质膜的制备,配合高压电源可实现上述膜层的注入与沉积。磁控溅射电源采用直流复合脉冲电源显著提高膜层的致密度。

仪器使用状态

正常使用    □闲置    □待维修    □待报废

服务产业领域

CY08 新材料产业

仪器产生社会效益与经济效益

 

应用仪器产生的科研成果

获奖情况    国家级:                省部级:             测样数:1200

        教师:                生:

论文情况    四大检索数: EI2          核心刊物数:

培训人数    学生:   2          教师:    1            其它人:其它

仪器图片

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

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